光刻胶膜厚仪 精度高 功耗低
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产品描述

分析范围0--50微米 分析精度0.005微米 分析误差小于5% 分析时间30秒 元素范围从硫到铀 探测器分辨率145ev x射线管50w 尺寸576*495*545mm 重量90kg 温度范围15--30度 电源电压220v 孔径大小0.2mm Z轴范围0--140mm
镀层厚度的测量方法主要有:楔切法,光截法,电解法,厚度差测量法,称重法,X射线荧光法,β射线反向散射法,电容法、磁性测量法及涡流测量法等等。这些方法中**种是有损检测,测量手段繁琐,速度慢,多适用于抽样检验。
X射线和β射线法是无接触无损测量,测量范围较小,X射线法可测薄镀层、双镀层、合金镀层。β射线法适合镀层和底材原子序号大于3的镀层测量。电容法仅在薄导电体的绝缘覆层测厚时采用。
镀层测厚仪有两种开机使用方法。一种是探头在测试过程中自动触发开机,并且直接显示出测量结果。这是因为采用了数字探头,非常的灵敏,会自动识别出测量基材,并且快速自动转换。
还有一种是按键开机。开机仪器会显示探头型号,两种不同量程的探头可供客户选择。
光刻胶膜厚仪
通过次级射线滤波器分离元素的重叠光谱 
性能优化,可分析的元素范围大:
预置800多种容易选择的应用参数/方法
的长期稳定性:
自动热补偿功能测量仪器温度变化并做修正,确保稳定的测试结果
例行进行简单快速的波谱校准,可自动检查仪器性能(例如灵敏性)并进行必要的修正
坚固耐用的设计
可在实验室或生产线上操作
坚固的工业设计
光刻胶膜厚仪
长效稳定X铜光管
半导体硅片电制冷系统,摒弃液氮制冷
内置高清晰摄像头,方便用户随时观测样品
脉冲处理器,数据处理快速准确
手动开关样品腔,操作方便
三重保护模式
整体钢架结构、外型时尚
FP软件,无标准样品时亦可测量
管流:50μA-1000μA
环境温度:15℃-30℃
环境湿度:30%-70%
光刻胶膜厚仪
镀层测厚仪它采用较新技术,具有精度高、示值稳定、功耗低、分辨率高、操作界面人性化等特点。其新增加的功能包括:分批组管理数据、多种在线测量模式、多种校准方式等,使仪器更加适合工业现场的工作需求,给客户提供了更多的便利。
不管是过去、现在还是将来,我们都将坚持以优良的产品,满意的服务的为理念,追求,不断研制创新产品来服务于我们的客户,不断为社会创造更高的价值。
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