膜厚仪参数 无损 快速测量

镀层测厚仪是将X射线照射在样品上，通过从样品上反射出来的*二次X射线的强度来。测量镀层等金属薄膜的厚度，因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线只有45-75W左右，所以不会对样品造成损坏。同时，测量的也可以在10秒到几分钟内完成。
镀层测厚仪因为采用的是主机与探头分离式的设计，所以在购买时有两个不同量程的探头可以选择。F5N3的探头，大量程厚可以测到5mm，F3N3的探头，厚可以测到3mm。
在测量以mm为单位的镀层厚度时，大量程的镀层测厚仪LS223就可以满足您的测量需求。客户在选购时可以根据测量材料的厚度来选择相应的探头。镀层测厚仪90天无理由退换货，任何不满意都可以退。

台式x射线测厚仪可测量：单一镀层：Zn，Ni，Cr，Cu，Ag，Au，Sn等。
二元合金层：例如Fe上的SnPb，ZnNi和NiP合金。
合金层：例如Ni上的AuCdCu合金。
双镀层：例如Au/Ni/Cu，Cr/Ni/Cu，Au/Ag/Ni，Sn/Cu/Brass，等等。
双镀层，其中一个镀层为合金层：例如Cr/NiCu/Plastic；Fe。
应用领域：黄金、铂、银等贵金属和各种饰的含量检测；金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定；贵金属加工和饰加工行业；银行、饰销售和检测机构；电镀行业。
快速、的分析：
大面积正比计数探测器和50瓦微聚焦X射线光管（X射线光束强度大、斑点小，样品激发佳）相结合，提供灵敏度
简单的元素区分：

快速：1分钟可以测定样品镀层的厚度，并达到测量精度要求。
方便：X荧光光谱仪部分机型采用进口国际上的电制冷半导体探测器，能量分辨率更优于eV，测试精度更高。并且不用液氮制冷，不用定期补充液氮，操作使用更加方便，并且运行成本比同类的其他产品更低。
无损：测试前后，样品无任何形式的变化。
直观：实时谱图，可直观显示元素含量。
测试范围广：X荧光光谱仪，是一种物理分析方法，其分析与样品的化学结合状态无关。对在化学性质上属同一族的元素也能进行分析,抽真空可以测试从Na到U。
可靠性高：由于测试过程无人为因素干扰，仪器自身分析精度、重复性与稳定性很高。所以，其测量的可靠性更高。
满足不同需求：测试软件为WINDOWS操作系统软件，操作方便、功能强大，软件可仪器状态，设定仪器参数，并有多种的分析方法，工作曲线制作方法灵活多样，方便满足不同客户不同样品的测试需要。
性价比高：相比化学分析类仪器，X荧光光谱仪在总体使用成本上有优势的，可以让更多的企业和厂家接受。
简易：对人员技术要求较低，操作简单方便,并且维护简单方便。

镀层测厚仪采用了电涡流原理以及霍尔效应测量的原理。主要用于测量金属以及非金属等基体上的油漆层、电镀层等非磁性材料的厚度。可以快速无损的测量出涂镀层的厚度。
广泛应用在电镀、喷涂、管道防腐、铝型材、钢结构、印刷线路版、及丝网印刷等行业中。特别适合用于生产现场的质量管控。
我们公司充分利用多年积累的技术知识，坚持以客户为导向，不断的创新，为客户日益复杂化和多样化的社会课题以及需求提供完全集成的分析解决方案。
http://jstryqgfyxgs.b2b168.com