反射式膜厚仪 精度高 功耗低
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产品描述

分析范围0--50微米 分析精度0.005微米 分析误差小于5% 分析时间30秒 元素范围从硫到铀 探测器分辨率145ev x射线管50w 尺寸576*495*545mm 重量90kg 温度范围15--30度 电源电压220v 孔径大小0.2mm Z轴范围0--140mm
镀层测厚仪是将X射线照射在样品上,通过从样品上反射出来的*二次X射线的强度来。测量镀层等金属薄膜的厚度,因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线只有45-75W左右,所以不会对样品造成损坏。同时,测量的也可以在10秒到几分钟内完成。
通过次级射线滤波器分离元素的重叠光谱 
性能优化,可分析的元素范围大:
预置800多种容易选择的应用参数/方法
的长期稳定性:
自动热补偿功能测量仪器温度变化并做修正,确保稳定的测试结果
例行进行简单快速的波谱校准,可自动检查仪器性能(例如灵敏性)并进行必要的修正
坚固耐用的设计
可在实验室或生产线上操作
坚固的工业设计
反射式膜厚仪
镀层膜厚检测:有效进行镀层厚度的产品质量管控
电镀液分析:检测电镀液成分及浓度,确保镀层质量
水质在线监测:有效监测电镀所产生的工业废水中的有害物质含量,已达到排放标准
RoHS有害元素检测:为电镀产品符合RoHS标准,严把质量关
重金属及槽液杂质检测:有效检测电镀成品,以及由电镀所产生的工业废水、废物中的重金属含量
反射式膜厚仪
X荧光测厚仪采用X荧光分析技术,可以测定各种金属镀层的厚度,包括单层、双层、多层及合金镀层等,它也可以进行电镀液的成分浓度测定。它能检测出常见金属镀层厚度,*样品预处理;分析时间短,仅为数十秒;即可分析出各金属镀层的厚度,分析测量动态范围宽,可从0.01M到60M。它是一种能谱分析方法,属于物理分析方法。当镀层样品在受到X射线照射时,其中所含镀层或基底材料元素的原子受到激发后会发射出各自的特征X射线,探测器探测到这些特征X射线后,将其光信号转变为模拟电信号;经过模拟数字变换器将模拟电信号转换为数字信号并送入计算机进行处理;计算机的应用软件根据获取的谱峰信息,通过数据处理测定出被测镀层样品中所含元素的种类及各元素的镀层厚度。
反射式膜厚仪
台式x射线测厚仪可测量:单一镀层:Zn,Ni,Cr,Cu,Ag,Au,Sn等。
二元合金层:例如Fe上的SnPb,ZnNi和NiP合金。
合金层:例如Ni上的AuCdCu合金。
双镀层:例如Au/Ni/Cu,Cr/Ni/Cu,Au/Ag/Ni,Sn/Cu/Brass,等等。
双镀层,其中一个镀层为合金层:例如Cr/NiCu/Plastic;Fe。
应用领域:黄金、铂、银等贵金属和各种饰的含量检测;金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定;贵金属加工和饰加工行业;银行、饰销售和检测机构;电镀行业。
快速、的分析:
大面积正比计数探测器和50瓦微聚焦X射线光管(X射线光束强度大、斑点小,样品激发佳)相结合,提供灵敏度
简单的元素区分:
不管是过去、现在还是将来,我们都将坚持以优良的产品,满意的服务的为理念,追求,不断研制创新产品来服务于我们的客户,不断为社会创造更高的价值。
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